A FUJIFILM XF 16-55mm f/2.8 R LM WR egy sokoldalú, szabványos zoomobjektív, amelyet FUJIFILM X-Mount APS-C formátumú tükör nélküli fényképezőgépekhez terveztek, 24-84mm egyenértékű, nagy látószögű és portré objektívek közötti tartományt kínálva. Az állandó f/2,8 maximális rekeszértékkel rendelkező objektív kiválóan használható nehéz fényviszonyok között, és…
A FUJIFILM XF 16-55mm f/2.8 R LM WR egy sokoldalú, szabványos zoomobjektív, amelyet FUJIFILM X-Mount APS-C formátumú tükör nélküli fényképezőgépekhez terveztek, 24-84mm egyenértékű, nagy látószögű és portré objektívek közötti tartományt kínálva. Az állandó f/2,8 maximális rekeszértékkel rendelkező objektív kiválóan használható nehéz fényviszonyok között, és figyelemre méltó mélységélesség-szabályozást biztosít.
Egy nagy rekesznyílású professzionális zoomobjektívnek lenyűgöző képeket kell készítenie, és az XF16-55mm objektív 9-es napellenzőt használ a szférikus aberrációk minimalizálása érdekében. A lekerekített rekesznyílást úgy tervezték, hogy körkörösebb rekesznyílást hozzon létre. Ez simább, kerekebb és természetesebb bokeh-t eredményez.
Az objektív 17 elemből áll 12 csoportban, amelyek között három aszférikus elem is található a torzítások és a szférikus aberrációk csökkentése érdekében. Az élesség fenntartása érdekében a teljes zoomtartományban három rendkívül alacsony szórású ED-elem is segíti a kromatikus aberrációk szabályozását.
A FUJIFILM szabadalmaztatott HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating) többrétegű bevonata a lencse teljes felületén segít minimalizálni a tükröződéseket és biztosítja a nagy fényáteresztési hatékonyságot, javítva az objektív teljesítményét a legkülönbözőbb fényviszonyok között.
Ez a bevonat nagyfeszültségű elektronsugárral készül, amely egy nagyon vékony és homogén réteget képez az üvegfelületen. Ennek a rétegnek nagyon alacsony a törésmutatója, ami nagy fényáteresztést tesz lehetővé és minimalizálja a tükröződést.
A Nano GI bevonatot (Nano Gradient Index Coating) szintén a tükröződés és a színanomáliák megjelenésének minimalizálására használják, amelyek befolyásolhatják a fényképek minőségét. Ez a nanotechnológiából származó bevonat a fény különböző törésmutatóit használja a bevonat különböző rétegeiben, gradiens indexű szerkezetet hozva létre. Ez a szerkezet lehetővé teszi a fény hatékonyabb visszaverődését a lencse felületén, és elnyomja az átlós szögben érkező fény tükröződését. A Nano GI bevonatot úgy is tervezték, hogy minimalizálja a színanomáliákat, például a kromatikus aberrációkat, amelyek nemkívánatos színtorzuláshoz vezethetnek.
Az AF rendszer egy nagy sebességű lineáris motoron alapul, amely mindössze 0,02 másodperc alatt képes fókuszálni (a FUJIFILM X-T4 fényképezőgéppel kombinálva). Sima, szinte hangtalan teljesítményt nyújt, ami különösen előnyös videózásnál és zajérzékeny területeken történő munkavégzéskor.
Az objektív por- és nedvességálló kialakítása lehetővé teszi, hogy időjárástól függetlenül elmerülhessen a fotózásban, és gondtalan használatot tesz lehetővé kedvezőtlen körülmények között és -10°C-os fagypont alatti hőmérsékleten is.
Ez az objektív képes az élesség és a finom bokeh tökéletes egyensúlyának elérésére. Olyan élethű színeket biztosít, amilyeneket zoomobjektívben még soha nem láthattál.